Enhancement of the contrast for a hexagonal boron nitride monolayer placed on a silicon nitride/silicon substrate

Hattori, Yoshiaki; Taniguchi, Takashi; Watanabe, Kenji; Kitamura, Masatoshi

https://hdl.handle.net/20.500.14094/90009619

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メタデータID	90009619
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
タイトル	Enhancement of the contrast for a hexagonal boron nitride monolayer placed on a silicon nitride/silicon substrate
著者	Hattori, Yoshiaki ; Taniguchi, Takashi ; Watanabe, Kenji ; Kitamura, Masatoshi
著者ID A2258 研究者ID 1000090736654 KUID https://kuid-rm-web.ofc.kobe-u.ac.jp/search/detail?systemId=b9487d8e029552e4520e17560c007669 著者名 Hattori, Yoshiaki 服部, 吉晃ハットリ, ヨシアキ所属機関名工学研究科
著者ID A1694 研究者ID 1000060422391 KUID https://kuid-rm-web.ofc.kobe-u.ac.jp/search/detail?systemId=ef93ec6dd4fc1b69520e17560c007669 著者名 Taniguchi, Takashi 谷口, 隆タニグチ, タカシ所属機関名理学研究科
著者名 Watanabe, Kenji
著者ID A0125 研究者ID 1000010345142 KUID https://kuid-rm-web.ofc.kobe-u.ac.jp/search/detail?systemId=323dcdd3ee9beeca520e17560c007669 著者名 Kitamura, Masatoshi 北村, 雅季キタムラ, マサトシ所属機関名工学研究科
言語	English (英語)
収録物名	Applied Physics Express
巻(号)	15(8)
ページ	086502
出版者	The Japan Society of Applied Physics
出版者	IOP Publishing
刊行日	2022-08-01
公開日	2022-08-10
抄録	We propose a visualization technique for identifying an exfoliated monolayer hexagonal boron nitride (hBN) flake placed on a SiNx/Si substrate. The use of a Si substrate with a 63 nm thick SiNx film enhanced the contrast of monolayer hBN at wavelengths of 480 and 530 nm by up to 12% and −12%, respectively. The maximum contrast for the Si substrate with SiNx is more than four times as large as that for a Si substrate with a ∼90 or ∼300 nm SiO2 film. Based on the results of the reflectance spectrum measurement and numerical calculations, the enhancement is discussed.
キーワード	h-BN
	2D materials
	insulating film
	optical interferometry
カテゴリ	工学研究科
	理学研究科
	学術雑誌論文
権利	© 2022 The Author(s). Published on behalf of The Japan Society of Applied Physics by IOP Publishing Ltd.
権利	Content from this work may be used under the terms of the Creative Commons Attribution 4.0 license. Any further distribution of this work must maintain attribution to the author(s) and the title of the work, journal citation and DOI.
関連情報	DOI https://doi.org/10.35848/1882-0786/ac8270

資源タイプ	journal article
ISSN	1882-0778　OPACで所蔵を検索　 CiNiiで学外所蔵を検索
eISSN	1882-0786　OPACで所蔵を検索　 CiNiiで学外所蔵を検索
NCID	AA12295133　OPACで所蔵を検索　 CiNiiで表示

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